[发明专利]半导体激光器装置无效

专利信息
申请号: 03823781.4 申请日: 2003-07-30
公开(公告)号: CN1689203A 公开(公告)日: 2005-10-26
发明(设计)人: 阿里克西·米可哈洛夫;威兰德·希尔 申请(专利权)人: 翰兹-利索兹切科专利管理有限公司及两合公司
主分类号: H01S5/14 分类号: H01S5/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李勇
地址: 德国盖*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种半导体激光器装置,包括一个具有至少一个出光面(5)的半导体激光器元件(1),由出光面中可以发出激光射线,该激光射线在一个第一方向(Y)上具有比在与其垂直的第二方向上更大的发散度;一个外部谐振器,具有至少一个反射装置(3,9),它具有一个反射面(4,10),该反射面可以将至少一部分由半导体激光器元件(1)通过出光面(5)发出的激光射线这样反射回半导体激光器(1)中,使得由此影响到半导体激光器(1)的波模光谱,以及一个设置在反射装置(3,9)与半导体激光器元件(1)之间的外部谐振器内的透镜装置(2),它至少在第一方向(Y)上可以至少部分地使激光射线的发散度减小,其中所述反射装置(3,9)的反射面(4,10)凹下地弯曲。
搜索关键词: 半导体激光器 装置
【主权项】:
1.一种半导体激光器装置,包括-一个具有至少一个出光面(5)的半导体激光器元件(1),由出光面中可以发出激光射线,该激光射线在一个第一方向(Y)上具有比在与其垂直的第二方向上更大的发散度;至少一个与出光面(5)间隔地设置在半导体激光器元件(1)外部的具有一个反射面(4,10)的反射装置(3,9),该反射面可以将至少一部分由半导体激光器元件(1)通过出光面(5)发出的激光射线这样反射回半导体激光器(1)中,使得由此影响到半导体激光器(1)的波模光谱;以及-一个设置在反射装置(3,9)与半导体激光器元件(1)之间的透镜装置(2),它至少在第一方向(Y)上可以至少部分地使激光射线的发散度减小;其特征在于,所述反射装置(3,9)的反射面(4,10)凹下地弯曲。
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