[发明专利]无定形碳膜及其制备方法以及无定形碳膜涂敷的材料有效
| 申请号： | 03824067.X | 申请日： | 2003-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1688738A | 公开（公告）日： | 2005-10-26 |
| 发明（设计）人： | 织田一彦;内海庆春;大原久典 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种无定形碳膜，其密度为2.8－3.3g/cm3。优选地，所述膜具有1×1018－1×1021自旋/cm3的自旋密度、按原子百分数表示为至少99.5％的碳浓度、按原子百分数表示为不超过0.5％的氢浓度、按原子百分数表示为不超过0.5％的惰性气体元素浓度以及3000－7000的努氏硬度。由母材以及从B、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中选择的至少一种物质形成厚度至少0.5nm并且不超过10nm的混合层。所述无定形碳膜沉积在混合层或者在混合层上形成的金属中间层上，从而增加粘附性。该无定形碳膜是用固体碳利用溅射法、阴极弧离子镀法或激光烧蚀法形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 无定形碳 及其 制备 方法 以及 膜涂敷 材料 | ||
【主权项】：
1.一种无定形碳膜，所述膜的密度等于或大于2.8g/cm3并且等于或小于3.3g/cm3。
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