[发明专利]用于MR设备的冷却装置无效
| 申请号： | 03824245.1 | 申请日： | 2003-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN1689122A | 公开（公告）日： | 2005-10-26 |
| 发明（设计）人： | J·A·奥韦维格 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F6/04 | 分类号： | H01F6/04;F25D29/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;梁永 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于冷却在MR设备中的超导线圈组件的冷却方法，其中该超导线圈组件10用冷却剂41、42冷却，冷却剂41、42与冷却腔20中的超导线圈组件热接触，该冷却剂通过致冷器50冷却。该方法包括以下步骤：当冷却腔中的至少一部分冷却剂超过预定温度时，从冷却腔向冷却剂储存器中输送(S2)冷却剂，而当冷却腔中的至少一部分冷却剂的温度等于或者低于预定温度时，冷却剂从冷却剂储存器返回(S4)到冷却腔。本发明还涉及实施该冷却方法的冷却装置和带有这种冷却装置的MR设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 mr 设备 冷却 装置 | ||
【主权项】：
1.一种冷却装置，用于冷却MR设备中的超导线圈组件，该冷却装置包括：用于容纳与超导线圈组件热接触的冷却剂的冷却腔，用于冷却该冷却剂的致冷器，其特征在于它包括与冷却腔流体连接的冷却剂储存器，该冷却剂储存器用于当冷却腔中的至少一部分冷却剂超过第一预定温度时从冷却腔吸收冷却剂，并且当冷却腔中的至少一部分冷却剂保持低于或者等于第二预定温度时冷却剂返回到冷却腔。
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