[发明专利]用于光束成形和均匀化的随机微透镜阵列有效
| 申请号： | 03824473.X | 申请日： | 2003-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1688907A | 公开（公告）日： | 2005-10-26 |
| 发明（设计）人： | T·R·M·塞尔斯 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/32 | 分类号： | G02B5/32;G02B5/18;G02B27/46;G02B27/42;G02B27/20;G02B27/14;G02B13/20;G02B3/02;G02B13/18;G02B3/00;G02B17/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 微透镜阵列通过微透镜(10)元件定义，该微透镜元件根据概率分布函数而互相不同，用于成形在所要求的远场散射图样中具有指定强度剖面的光束。这些差异包括在相应于微透镜的表面形状(60)的垂度剖面中的随机变化，相应于微透镜的边界的边界剖面(46)，以及相应于阵列中微透镜的相对位置的空间分布。垂度剖面变化可用于均匀化光束的强度剖面。不规则空间分布中的边界剖面变化可以用于在所要求的散射图样中应用光束的指定的强度剖面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光束 成形 均匀 随机 透镜 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种用于根据指定的强度剖面在所要求的远场散射图样中成形光束的光学装置，包括：光学衬底；在该衬底上分布的微透镜阵列；每个微透镜被一组参数值限定在阵列中，该组参数值总体上和限定阵列中的其他微透镜的同一组参数的值不同；该参数包括相应于微透镜的表面形状的垂度剖面，相应于微透镜的边界的边界剖面，和相应于阵列中的微透镜的相对位置的空间分布；垂度剖面在阵列的微透镜之间变化以均匀化光束的强度剖面；和边界剖面在非规则空间分布中的微透镜之间变化以在所要求的远场散射图样中应用指定的强度剖面。
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