[发明专利]用于对一等离子处理系统进行工具匹配和故障排除的方法有效
| 申请号： | 03824681.3 | 申请日： | 2003-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1698177A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 阿芒·阿沃扬;赛义德·加法尔·加法利安－德黑兰尼 | 申请（专利权）人： | 蓝姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示一种测试一包括一腔室、一射频功率源以及一匹配网络的等离子处理系统的方法。从所述射频功率源向所述腔室生成一射频功率信号，但不触发所述腔室内的任何等离子。在影响所述腔室的其它参数均保持恒定的情况下，对所述腔室收到的所述射频功率信号的电压、所述射频功率信号的电流以及所述射频功率信号的相位进行测量。基于所述电压、电流和相位计算出代表所述腔室阻抗的一个数值。将所述数值与一个参考值加以对比，从而确定所述等离子处理系统内的任何缺陷。所述参考值代表一无缺陷腔室的阻抗。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 一等 离子 处理 系统 进行 工具 匹配 故障 排除 方法 | ||
【主权项】：
1、一种测试一等离子处理系统的方法，所述系统具有一腔室、一射频功率源和一匹配网络，所述方法包括：从所述射频功率源向所述腔室生成一射频功率信号，但不触发所述腔室内的任何等离子；在影响所述腔室的其它参数保持恒定的情况下，测量所述腔室接收到的所述射频功率信号的一电压值、所述射频功率信号的一电流值和所述射频功率信号的一相位；基于所述电压值、所述电流值和所述相位，计算出代表所述腔室阻抗的一数值；及将所述数值与一参考值加以对比，确定所述等离子处理系统内的任何缺陷，所述参考值代表一无缺陷腔室的阻抗。
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