[发明专利]纳米结构与纳米多孔膜组成、结构及其制造方法无效
| 申请号： | 03825492.1 | 申请日： | 2003-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1703286A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | L·G·斯文森;S·P·慕克吉;P·J·小罗曼;R·H·希尔;H·O·马德森;X·张;D·霍赫茨 | 申请（专利权）人： | 西蒙弗雷泽大学 |
| 主分类号： | B05D1/02 | 分类号： | B05D1/02;B05D1/18;B05D3/00;B05D3/02;B05D3/06;B05D5/00;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/14;C23C14/28;H05H1/00;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 沙捷;刘颖 |
| 地址： | 加拿大英*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | 本发明包括制作各种合成物的纳米结构和纳米多孔薄膜结构的方法。可直接在这些膜上形成图案。在这些方法中，前体膜沉积在一个表面上，前体膜的不同组分在选择的条件下起反应，形成纳米结构或纳米多孔膜。这种膜可用在各种应用中，例如，低k电介质，传感器，催化剂，导体或磁膜。可以下述方式生成纳米结构膜：(1)使用一种前体组分和两种反应，(2)基于不同的光化学转换率使用两种或多种组分，(3)使用两个前体，基于一个前体的热敏性和另一个前体的光化学敏感性，和(4)通过前体膜的光化学反应并从膜上选择性去除大部分未反应的组分。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 结构 多孔 组成 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种沉积纳米结构膜的方法，该膜包括一种或多种嵌有纳米孔的金属或金属氧化物；其中所述纳米孔的形成是在金属配合基前体溶液沉积在基底上之后该溶液的光化学反应的结果。
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