[发明专利]溅射沉积薄膜的均匀固溶体合金无效
申请号: | 03825515.4 | 申请日: | 2003-09-26 |
公开(公告)号: | CN1777703A | 公开(公告)日: | 2006-05-24 |
发明(设计)人: | M·E·汤马士;李逸亨 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | C25C1/06 | 分类号: | C25C1/06;C25C1/22 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 蔡民军 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明包括设有溅射面的溅射部件。至少99原子%的溅射面是单相,单相对应于两种或多种元素形式的元素的固溶体相。另外,溅射部件的总体积也由单相组成,其与两种或多种元素形式的元素的固溶体相对应。本发明还涉及采用还原工艺,电解工艺和碘化物法中的一个或多个形成混合金属材料的方法。 | ||
搜索关键词: | 溅射 沉积 薄膜 均匀 固溶体 合金 | ||
【主权项】:
1.一种包括溅射面的溅射部件,至少99原子%的所述溅射面包是与元素形式的两种或多种元素的固溶体相对应的单相;所述两种或多种元素选自周期表的1,5,6,8,9和10族。
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