[发明专利]卤化银照相光敏材料无效

专利信息
申请号: 03825955.9 申请日: 2003-02-14
公开(公告)号: CN1742230A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 西村基 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达影像株式会社
主分类号: G03C7/384 分类号: G03C7/384;G03C7/392;G03C7/44
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 刘明海
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及甚至当在相对低的补充速度下处理时显示出优异处理稳定性的卤化银照相材料。在载体上含至少一种卤化银乳剂层的卤化银照相材料的特征在于,卤化银乳剂层含有至少两种用下式(M-1)或(M-2)表示的图像形成成色剂,其中R2或R3表示的在取代基内包含的烷基之间的碳原子数之差为至少2;和在30-100ml/m2的彩色显影剂补充溶液的补充速度下,用彩色显影剂溶液使照相材料显影,和该彩色显影剂补充溶液含有用量为5.0-20g/l的彩色显影剂。
搜索关键词: 卤化 照相 光敏 材料
【主权项】:
1.一种卤化银照相材料,它包括在载体上的至少一层卤化银乳剂层,其中该卤化银乳剂层含有至少两种下式(M-1)或(M-2)表示的成图像成色剂;用彩色显影剂溶液使该照相材料显影,同时以30-100ml/m2的补充速度补充彩色显影剂补充溶液,和该彩色显影剂补充溶液含有用量为5.0-20g/l的彩色显影剂;    式(M-1)                         式(M-2)其中R1和R4各自为氢原子或取代基;R2和R3各自为取代基,条件是R2和R3表示的取代基含有具有至少6个碳原子的烷基,和在两种成色剂之间由R2或R3表示的取代基内包含的烷基之间的碳原子数之差为至少2;X是一旦与彩色显影剂的氧化产物反应能被释放的基团;
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