[发明专利]薄膜状石墨及其制造方法无效
| 申请号： | 03827015.3 | 申请日： | 2003-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN1826288A | 公开（公告）日： | 2006-08-30 |
| 发明（设计）人： | 西川泰司;村上睦明;赤堀廉一 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;C08J5/18;C08L79/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 薄膜状石墨的制造方法，其特征在于包括制造双折射为0.12或更大的聚酰亚胺薄膜的工序和在2400℃或更高的温度下对前述聚酰亚胺薄膜进行热处理的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜状 石墨 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.薄膜状石墨的制造方法，其特征在于，包括制造双折射为0.12或更大的聚酰亚胺薄膜的工序和在2400℃或更高的温度下对前述聚酰亚胺薄膜进行热处理的工序。
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