[其他]垂直磁性记录介质在审
| 申请号： | 101985000003512 | 申请日： | 1985-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN85103512B | 公开（公告）日： | 1988-12-21 |
| 发明（设计）人： | 二本正昭;本多幸雄;上坂保太郎;吉田和悦 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所;日立精机株式会社 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国专利代理有限公司 | 代理人： | 吴秉芬 |
| 地址： | 日本东京都千代*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 所公开的材料是有关垂直磁性记录介质的。其中从属层是由硅及／或锗作为主要成分的材料所组成。该从属层沉积在一衬底上而由钴基合金所做成的垂直磁膜则沉积在该从属层上。这种垂直磁性记录介质其垂直磁性膜的ｅ轴定向度已经得到增强，且当衬底为非金属材料时。垂直磁性膜及衬底之间的结合强度也得到了加强。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 磁性 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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