[其他]滤光片生产中用的掩膜在审
| 申请号： | 101985000004654 | 申请日： | 1985-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN85104654B | 公开（公告）日： | 1987-03-11 |
| 发明（设计）人： | 山岸丰;石田正彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 王宪模;王申 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种在滤光片生产中采用的带有许多孔的掩膜，它可以防止蒸涂的金属覆盖到基片的被切割部分而仅仅能覆盖到基片上为掩膜孔所暴露的部分。掩膜孔的边缘加工成薄的阶梯形，这样的结构能够消除所谓的遮蔽部分和避免掩膜的弯曲。 | ||
| 搜索关键词： | 滤光 生产 中用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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