[其他]二氧化碲单晶体的生长技术在审

专利信息
申请号: 101985000007803 申请日: 1985-10-09
公开(公告)号: CN1005159B 公开(公告)日: 1989-09-13
发明(设计)人: 蒲芝芬;葛增伟 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国科学院上海专利事务所 代理人: 潘振**;聂淑仪
地址: 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种属于晶体生长技术的二氧化碲(TeO2)单晶体生长。其特征在于用坩埚下降法可生长多种切向和形状的单晶体。利用本技术可沿[100][001][110]方向并可沿其中任一方向生长方棒、椭圆形、菱形、板状及圆柱形晶体。所生长晶体可达(70~80)mm×(20~30)mm×100mm。本方法与一般提拉法比具有设备简单,不受提拉方向和切形限制,基本无污染等优点,而且晶体利用率可相应提高30~100%。
搜索关键词: 氧化 单晶体 生长 技术
【主权项】:
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