[发明专利]维持微影制程容许度的方法无效
| 申请号： | 200310100087.1 | 申请日： | 2003-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1605937A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 陈良信;吴国坚;陈逸男;谢文贵 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/14;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王一斌 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种维持微影制程容许度的方法。首先，提供一基底；接着，形成一抗反射层于上述基底表面；然后，形成一透明保护层于上述抗反射层表面；接着，形成一图案化光阻于上述透明保护层表面；最后，以上述图案化光阻为罩幕，依序蚀刻上述透明保护层、上述抗反射层与上述基底。 | ||
| 搜索关键词： | 维持 微影制程 容许 方法 | ||
【主权项】：
1.一种维持微影制程容许度(process window)的方法，包括：提供一基底；形成一抗反射层于上述基底表面；形成一透明保护层于上述抗反射层表面；形成一图案化光阻于上述透明保护层表面；以及以上述图案化光阻为罩幕，依序蚀刻上述透明保护层、上述抗反射层与上述基底。
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