[发明专利]普通光源紧贴式纳米光刻光学装置无效
| 申请号： | 200310100167.7 | 申请日： | 2003-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN1607462A | 公开（公告）日： | 2005-04-20 |
| 发明（设计）人： | 陈旭南;石建平;陈献忠;秦涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/207;C23F1/08 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;卢纪 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 普通光源紧贴式纳米光刻光学装置，由光源(4)、均匀器(3)、滤光片(2)、反射镜(1)、椭球反射镜(5)和镜组(6)组成的均匀照明系统照明掩模(7)，使紧贴放置硅片(9)上的抗蚀剂涂层(8)感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(4)是使用普通光源的光，在均匀照明位置放置的掩模是单层金属掩模(7)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(8)之间为贴紧接触，无空隙。本发明用248－500nm任意波长光照明金属掩模，激发其金属掩模表面等离子体，形成等离子表面波传播，出射小发散角光用于纳米光刻，不受衍射极限的限制，不需要复杂昂贵的极短波长光源和复杂的掩模，就可制作出纳米量级的图形。 | ||
| 搜索关键词： | 普通 光源 紧贴 纳米 光刻 光学 装置 | ||
【主权项】：
1、普通光源紧贴式纳米光刻光学装置，由光源(4)、均匀器(3)、滤光片(2)、反射镜(1)、镜组(6)和椭球反射镜(5)组成的均匀照明系统照明掩模(7)，使紧贴接触放置硅片(9)上的抗蚀剂涂层(8)感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(4)是普通光源的光，在均匀照明位置放置的掩模是单层金属掩模(7)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(8)之间为紧贴式接触，无空隙。
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