[发明专利]添加两性霉素发酵液提高耐高渗酵母发酵甘油浓度的方法无效

专利信息
申请号: 200310100271.6 申请日: 2003-10-17
公开(公告)号: CN1528908A 公开(公告)日: 2004-09-15
发明(设计)人: 张建安;杨燕鸥;刘德华;谢东明;杨海荣 申请(专利权)人: 清华大学;中国科学院过程工程研究所
主分类号: C12P7/20 分类号: C12P7/20;//
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 李光松
地址: 100084北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于甘油制备技术领域一种添加两性霉素发酵液提高发酵甘油浓度的方法。在甘油发酵培养基中接入耐高渗酵母菌种,同时,在甘油发酵过程中,加入两性霉素发酵液继续进行甘油发酵。添加两性霉素发酵液改善了耐高渗酵母细胞的膜透性,调节渗透压,使胞内甘油分泌到胞外,进而提高发酵甘油的浓度10-90%。该工艺过程简单、易于控制、成本较低。易于实现工业化应用。
搜索关键词: 添加 两性 霉素 发酵 提高 耐高渗 酵母 甘油 浓度 方法
【主权项】:
1.一种添加两性霉素发酵液提高耐高渗酵母发酵甘油浓度的方法,其特征在于:在耐高渗酵母发酵甘油的过程中,添加两性霉素发酵液来改善耐高渗酵母细胞的膜透性,调节渗透压,使胞内甘油分泌到胞外,进而提高发酵甘油的浓度;具体实施过程是在三角瓶中添加50-100ml的甘油发酵培养基,接入体积百分比5-10%的耐高渗酵母菌种,在温度30-35℃、摇床转速140-160r/min下发酵生产甘油,同时,在甘油发酵过程中,在0-96小时之间加入体积百分比0.5-2%的两性霉素发酵液继续进行甘油发酵。
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