[发明专利]涂布机和涂布方法无效
| 申请号： | 200310100742.3 | 申请日： | 2003-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1539560A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | 泷泽正晴 | 申请（专利权）人： | 尔必达存储器株式会社 |
| 主分类号： | B05C11/08 | 分类号： | B05C11/08;B05D1/40;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;丁业平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及涂布机和涂布方法。通过用冲洗液进行边缘冲洗，除去在晶片上形成的涂膜的在晶片侧面上形成的边缘残留物的涂布机，其具有混合对涂膜具有不同溶解速度的多种溶剂后进行边缘冲洗的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布机 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂布机，通过用冲洗液进行边缘冲洗，除去在晶片上形成的涂膜的在晶片侧面上形成的边缘残留物，其特征在于，具有混合对涂膜具有不同溶解速度的多种溶剂后，进行边缘冲洗的装置。
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