[发明专利]正性光敏组成物无效
| 申请号： | 200310102321.4 | 申请日： | 2003-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN1499295A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 矢作公 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及到一种正性光敏组成物，由在一个分子中具有两个或更多环氧基团的环氧化合物、固化催化剂或通过加热用于产生固化催化剂的化合物以及磺酸盐组成；还涉及到一种制造半导体组件的方法，该方法包括将正性光敏组成物涂在基片上曝光后，通过加热固化未曝光部分，并显影曝光部分；以及涉及到一种制造显示器组件的方法，该方法包括将正性光敏组成物涂在基片上曝光后，通过加热固化未曝光部分，并显影曝光部分。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 组成 | ||
【主权项】：
1.一种正性光敏组成物，其特征在于包括：在一个分子中具有两个或多个环氧基团的环氧化合物；固化催化剂或通过加热产生固化催化剂的化合物；以及一磺酸盐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学工业株式会社，未经住友化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200310102321.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：平版印刷版前体
- 下一篇：一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物
