[发明专利]一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物无效
申请号: | 200310102365.7 | 申请日: | 2003-10-27 |
公开(公告)号: | CN1499296A | 公开(公告)日: | 2004-05-26 |
发明(设计)人: | 高田佳幸;李荣濬;落合钢志郎 | 申请(专利权)人: | 住友化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/038 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种含有结构单元(I)的树脂:化学式(I)中,R1表示含有1~4个碳原子的亚烷基,R2表示含有1~4个碳原子的烷基,R3表示氢或甲基。此外,本发明还涉及一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物,该组合物中包含有以上所述的树脂和产酸源等。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 增幅 型正性抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种树脂,含有如化学式(I)的结构单元:
化学式(I)中,R1表示含有1~4个碳原子的亚烷基,R2表示含有1~4个碳原子的烷基,R3表示氢或甲基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学工业株式会社,未经住友化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200310102365.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:正性光敏组成物
- 下一篇:一种光刻装置和装置的制作方法