[发明专利]具有用沟槽结构分隔的微透镜阵列的图象传感器及制造方法无效

专利信息
申请号: 200310102574.1 申请日: 2003-10-23
公开(公告)号: CN1574381A 公开(公告)日: 2005-02-02
发明(设计)人: 山本克已 申请(专利权)人: 华微半导体(上海)有限责任公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/335;G02B1/04;G02B3/00;G02B5/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 200031中国上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种具有微透镜的图象传感器。该图象传感器包括多个形成于半导体衬底内的象素,每个象素都含有光敏感元件。在每个光敏感元件的上面形成了微透镜。最后,沟槽结构包围每个微透镜。
搜索关键词: 有用 沟槽 结构 分隔 透镜 阵列 图象 传感器 制造 方法
【主权项】:
1.一种图象传感器包括:多个象素,其形成于半导体衬底内,每一个象素都包含光敏感元件;在每个所述光敏感元件上面的微透镜;和沟槽结构,其包围每一个微透镜。
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