[发明专利]基板校准装置，基板处理装置及基板搬运装置无效
| 申请号： | 200310102643.9 | 申请日： | 2003-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1499299A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 立山清久;元田公男;岩崎达也 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/00;G02F1/133;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安;杨松龄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在把基板(G)载置于工作台(100)上的状态下，通过经由气体供应管(118)和筒状支承体(114)内的通气路径(114a)、从气体喷出部(116)以规定的压力喷出从高压气体供应源来的高压空气，使基板(G)实质上从支承销(108)上浮起。由于气体喷出部(116)形成喇叭型，所以，与基板(G)下表面接触的空气不会产生涡流，顺滑地通过间隙(g)而排出到外部。借助这种结构，不会对被处理基板造成伤害及擦痕，不会产生污染，可以安全并且正确、进而高效率地进行基板的对位。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 装置 处理 搬运 | ||
【主权项】：
1.一种基板校准装置，包括：为了基本上水平地支承被处理基板(G)而分散地配置的多个支承部，在各个前述支承部的附近，从下方向前述被处理基板施加气体的压力、使前述被处理基板实质上浮起的漂置机构(110)，将浮起状态的前述被处理基板在水平面内向规定的方向推压而进行定位的定位机构(102)。
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