[发明专利]印刷板材料有效
| 申请号： | 200310102682.9 | 申请日： | 2003-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN1499287A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 森孝博 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达控股株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;B41C1/05;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种印刷板材料，包括基材和提供在其上的组分层，所述基材的中心线平均表面粗糙度Ra为0.2－1.0μm，油保留体积A2为1－10，其中中心线平均表面粗糙度Ra由根据JIS－B－0601标准的三维表面粗糙度测量得到，和其中图像能够以成像方式曝光于红外激光而在组分层上被记录。 | ||
| 搜索关键词： | 印刷 板材 | ||
【主权项】：
1.一种印刷板材料，包括基材和提供在其上的组分层，所述基材的中心线平均表面粗糙度Ra为0.2-1.0μm，油保留体积A2为1-10，其中中心线平均表面粗糙度Ra由根据JIS-B-0601标准的三维表面粗糙度测量得到，和其中能够以成像方式曝光于红外激光而在组分层上记录图像。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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