[发明专利]菲涅耳透镜的形成方法无效

专利信息
申请号: 200310103075.4 申请日: 2003-10-30
公开(公告)号: CN1611970A 公开(公告)日: 2005-05-04
发明(设计)人: 廖为松;郭雨水;苏峰贤;邱显尧;黄德松 申请(专利权)人: 精碟科技股份有限公司
主分类号: G02B3/08 分类号: G02B3/08;B29D11/00;G03B21/14
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈泊;王刚
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种菲涅耳透镜的形成方法,包括提供一模板,形成一第一菲涅耳材料层,形成一第二菲涅耳材料层,设置一透明基板,以及压合透明基板、第二菲涅耳材料层、第一菲涅耳材料层及模板。其中,模板具有一表面,其形成有一菲涅耳透镜的对应图案,第一菲涅耳材料层形成于形成有对应图案的表面上,第二菲涅耳材料层形成于第一菲涅耳材料层上,透明基板设置于第二菲涅耳材料层上。
搜索关键词: 菲涅耳 透镜 形成 方法
【主权项】:
1、一种菲涅耳透镜的形成方法,包含:提供一模板,该模板的一表面形成有一菲涅耳透镜的对应图案;形成一第一菲涅耳材料层于该表面上;形成一第二菲涅耳材料层于该第一菲涅耳材料层上;设置一透明基板于该第二菲涅耳材料层上;以及压合该透明基板、该第二菲涅耳材料层、该第一菲涅耳材料层及该模板。
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