[发明专利]一种光刻装置和装置的制作方法无效
| 申请号： | 200310103693.9 | 申请日： | 2003-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN1499297A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | R·库尔特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68;G02B5/08;G02B1/10;B32B5/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提出了一种如EUV光刻装置的多层反射镜这样的光学元件，光学元件具有至少一层，每层含有一个或多个Buckminster球壳状碳分子。一般地，球壳状碳分子形成封盖层，可设置为光学元件的外封盖层或形成靠近由不同材料形成的外封盖层的次封盖层。含球壳状碳分子的层还可以选择或额外地设置成多层反射镜的两层之间的中间层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 装置 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：辐射系统，可提供投影光束；支承结构，可支承形成图案机构，所述形成图案机构可根据希望图案使所述投影光束形成图案；基片台，可固定保持基片；投影系统，可将形成图案的光束投影到所述基片的目标部分；其特征在于，至少一个光学元件包括至少一层，每层含有一个或多个Buckminster球壳状碳分子。
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