[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 200310104328.X | 申请日： | 2003-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN1498698A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 芳谷光明 | 申请（专利权）人： | 大日本屏影象制造株式会社 |
| 主分类号： | B08B5/00 | 分类号： | B08B5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安;杨松龄 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种在收存器内的氛围气体中存在空气流时、能不受空气流的影响而使整个基板的处理结果均匀的基板处理装置。在实施边通过搬运辊(15)移动基板(W)边从喷出喷嘴(20)向基板(W)喷出等离子气体而去除附着在基板(W)上的有机物的处理时，在喷出喷嘴(20)的正下方附近的与基板(W)的行进方向平行的位置处配置2枚侧面整流板(30)，并在喷出喷嘴(20)的下方配置下部整流板(31)。这样，由于通过设置侧面整流板(30)和下部整流板(31)，能够对处理室(10)内的空气流(FL12)进行整流，并能够使等离子气体的气体流(FL11)在基板(W)的端缘部和中央部均匀，所以能够在整个基板(W)上使有机物的去除处理结果均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：(a)处理室；(b)配设在上述处理室内并从存在于上述处理室内的基板的上方相对于上述基板喷出处理流体的喷出机构；(c)使上述基板沿规定的搬运路径移动的移动机构；(d)设于上述基板的附近并对上述基板附近的气流进行整流的整流机构。
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