[发明专利]抗蚀液涂敷方法和装置无效

专利信息
申请号: 200310104695.X 申请日: 2003-10-27
公开(公告)号: CN1501443A 公开(公告)日: 2004-06-02
发明(设计)人: 高森秀之 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G03F7/16;B05D1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯;叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是抑制在被处理基板上涂敷的抗蚀液在干燥处理中的移动、保证抗蚀膜的膜厚均一性的抗蚀液涂敷方法和抗蚀液涂敷装置。抗蚀液喷嘴头154沿点划线A所示路线移动,对第1列至第3列依次进行涂敷扫描。更详细地说,沿Y方向穿过各个列的液晶板区域S移动,仅仅限定向各涂敷区域E(图中斜线部分)涂敷抗蚀液。从而,基板G的被处理面中,仅仅向与液晶板区域S分别对应的涂敷区域E以大致一定的膜厚涂敷了抗蚀液。基板周缘部和相邻接的涂敷区域E、E的间隙d中,残留有不存在抗蚀液膜的空区域。
搜索关键词: 抗蚀液涂敷 方法 装置
【主权项】:
1.一种抗蚀液涂敷方法,在光刻工序中向被处理基板G上涂敷抗蚀液,它包括:设定工序,在上述基板上设定实质上分离独立的多个涂敷区域E;涂敷工序,在上述基板上限定上述涂敷区域并涂敷抗蚀液。
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