[发明专利]全光纤型N×N光开关及制作方法无效
申请号: | 200310108350.1 | 申请日: | 2003-10-31 |
公开(公告)号: | CN1540374A | 公开(公告)日: | 2004-10-27 |
发明(设计)人: | 吴亚明;屈红昌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G02B6/125 | 分类号: | G02B6/125;G02B6/28;H04B10/02 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 潘振甦 |
地址: | 200050*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种全光纤型高速N×N光开关及制作方法,属于光通信领域。其特征在于它输入光纤层、输出光纤层和调制层构成,调制层位于输入光纤层和输出光纤层的重合部位,输入光纤层和输出光纤层之间夹角小于8°,中间添加一层折射率介于1.4-1.5,厚度为8-12um的聚合物层。输入光纤层和输出光纤层的光纤均粘结在V型槽陈列上,光纤直接作为输入和输出的耦合通道。采用化学机械抛光的技术和硅微机械加工工艺,可精确控制工艺,达到精确定位,提高输出和输入的耦合效率。本发明可用于大规模、高速全光交换。 | ||
搜索关键词: | 光纤 开关 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种全光纤型的N×N光开关,它由输入光纤层、输出光纤层和光调制层构成。其特征在于光调制层位于输入光纤层和输出光纤层的重合部位;输入光纤层和输出光纤层的光纤均粘结在V型槽陈列上,光纤直接作为输入和输出的耦合通道。
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