[发明专利]磁记录存储器介质用玻璃基片材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200310108398.2 | 申请日： | 2003-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN1541963A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 张建成;王华;顾峰;沈悦;姜盛瑜 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C03C3/095 | 分类号： | C03C3/095;C03B25/00;G11B5/62;G11B5/73 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200072*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁记录存储器介质用玻璃基片材料及其制备方法，属玻璃材料及制备技术领域。本发明的一种磁记录存储器介质用玻璃基片材料，其组成成分及含量(重量百分比)如下：SiO2 60－70％、B2O3 4－9％、Na2O 4.5－6.5％、K2O 0－7％、Li2O 0.1－9％、TiO2 0－5％、Al2O3 3－8％、As2O3+Sb2O3 0.4％、ZnO 0－6.5％、ZrO2 0－5％；另外还需加入适量的碱土金属、稀土元素氧化物。该基片材料制备方法为：按上述的原料的组成及配比进行称量，研磨混合均匀后放入熔炼炉中，加热到1300～1350℃温度，使其熔化，并保温5～6小时，并搅拌；出炉后，将融化的原料放至专用的成形模具中，其模具温度在400～500℃。当成形后，即进入退火炉中热处理，热处理温度为500－550℃，退火时间不超过8小时。并以4～15℃/min冷却至室温，取出即可。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 存储器 介质 玻璃 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录存储器介质用玻璃基片材料，其特征在于，该材料是由SiO2-B2O3-Al2O3-Li2O-TiO2-ZnO氧化物构成的硅酸盐系玻璃，其主要的组成成分及含量(重量百分比)如下：SiO2 60-70％ B2O3 4-9％Na2O 4.5-6.5％ K2O 0-5％Li2O 0.1-9％ TiO2 0-5％Al2O3 3-7.5％ As2O3+Sb2O3 0.4％ZnO 0-6.5％ ZrO2 0-5％碱土金属氧化物 0.2-0.5％稀土元素氧化物 0.2-2％
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