[发明专利]玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法无效
| 申请号： | 200310108927.9 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1544372A | 公开（公告）日： | 2004-11-10 |
| 发明（设计）人： | 程先华;上官倩芡;白涛;吴炬 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C03C17/22 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法。属于薄膜制备领域。本发明采用羟基化进行玻璃基片的预处理，用Pirahan溶液H2SO4∶H2O2体积比＝70∶30，于室温下处理30min，再用去离子水淋洗，放在防尘装置内在烘箱中干燥，将处理后的玻璃基片浸入配置好的稀土改性剂中，静置8小时，取出后，用去离子水冲洗后，在室温中晾干后置于烘箱，于120摄氏度保温1个小时，即获得稀土自组装纳米薄膜，其中稀土改性剂的组分重量百分比为：乙醇含量：60％～80％，稀土化合物：4.5％～7％，乙二胺四乙酸：1％～4％，氯化铵：2％～5％，尿素：15％～25％，硝酸：0.5％～1.5％。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩作用和抗磨损性能。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 表面 组装 稀土 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法，其特征在于，采用表面经过羟基化的玻璃基片作为基底材料，在其表面采用自组装方法制备稀土纳米膜，方法如下：采用羟基化进行玻璃基片的预处理，用Pirahan溶液H2SO4∶H2O2体积比＝70∶30，于室温下处理30min，再用大量去离子水淋洗，放在一个防尘装置内在烘箱中干燥，将处理后的玻璃基片浸入配置好的稀土改性剂中，静置8小时，取出后，用去离子水冲洗后，在室温中晾干后置于烘箱，于120摄氏度保温1个小时，即获得稀土自组装纳米薄膜，其中采用的稀土改性剂的组分重量百分比为：乙醇含量：60％～80％，稀土化合物：4.5％～7％，乙二胺四乙酸：1％～4％，氯化铵：2％～5％，尿素：15％～25％，硝酸：0.5％～1.5％。
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