[发明专利]纳米微晶金刚石薄膜及其制备方法无效
申请号: | 200310109045.4 | 申请日: | 2004-03-19 |
公开(公告)号: | CN1563479A | 公开(公告)日: | 2005-01-12 |
发明(设计)人: | 应萱同 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/46 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明为一种纳米微晶金刚石薄膜及其制备方法。该薄膜为一种多层复合膜,由纳米尺寸的金刚石薄膜NCD和亚微米尺寸的金刚石薄膜依次交替相叠组成。每层NCD厚度为0.01-0.08微米,MCD厚度为0.1-0.3微米。其制备采用电子束辅助热灯丝化学气相沉积方法,二步法金刚石高密度成核优化生长工艺,多光束干涉薄膜厚度实时监控工艺,并选用合适的优化工艺条件。所得纳米微晶金刚石薄膜,除了具有CVD金刚石的优良性能外,其表面光散射大为减少,且短波透射率有明显改善。可广泛用作红外及可见光光学保护膜和增透膜、增反膜等光学器件。 | ||
搜索关键词: | 纳米 金刚石 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种纳米微晶金刚石薄膜,是一种多层复合膜,其特征在于由小颗粒纳米尺寸的金刚石薄膜NCD和大颗粒亚微米尺寸的金刚石薄膜MCD依次交替相叠组成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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