[发明专利]一种氧化锌同质结p-n结材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200310109139.1 申请日: 2003-12-05
公开(公告)号: CN1547264A 公开(公告)日: 2004-11-17
发明(设计)人: 边继明;李效民;高相东;于伟东 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L31/103;H01S5/327
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 潘振甦
地址: 20005*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用喷雾热解法,通过氮和铟的共掺杂,制备p-型氧化锌薄膜材料,通过掺杂铟制备低阻n-型氧化锌薄膜材料,从而制得ZnO同质结p-n结的方法。在该方法中,通过向先驱体溶液中添加适量的含氮和含铟掺杂剂,经超声雾化热解反应制备p-型氧化锌薄膜,通过向先驱体溶液中添加适量的铟掺杂剂,经超声雾化热解反应制备低阻n-型氧化锌薄膜。在不同的材料表面上,先后生长p-型(或n-型)和n-型(或p-型)ZnO薄膜即可制得ZnO同质结p-n结。通过控制先驱体溶液浓度及配比、衬底温度、成膜气氛及雾化气量可实现对制得ZnO同质结p-n结电学性能的控制,以满足制备氧化锌基发光二极管(LEDs),激光二极管(LDs)等光电子器件方面的需要。该法工艺简单易行,成本低廉。
搜索关键词: 一种 氧化锌 同质 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种氧化锌同质结p-n结材料,其特征在于包括p-型ZnO薄膜和n-型ZnO薄膜,p-型ZnO薄膜的厚度0.3~1μm,其中氮的原子浓度百分比为2~8%,铟的原子浓度百分比为0.5~5%;n-型ZnO薄膜的厚度为0.3~1μm,铟的原子浓度百分比0.5~5%。
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