[发明专利]抛光设备的清洗装置有效
| 申请号： | 200310109859.8 | 申请日： | 2003-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN1634681A | 公开（公告）日： | 2005-07-06 |
| 发明（设计）人： | 林志菁 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B55/00 | 分类号： | B24B55/00 |
| 代理公司： | 上海隆天新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 竺明;谢晋光 |
| 地址： | 201203上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光设备的清洗装置，包括：二喷孔设于该抛光设备的清洗装置的两侧；及一洗剂入口设于该抛光设备的清洗装置。该抛光设备的清洗装置可充份清洗残留在抛光设备底部的泥浆，以防止干燥的泥浆掉落于抛光垫上所造成的晶圆的刮伤及损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 清洗 装置 | ||
【主权项】：
1.一种抛光设备的清洗装置，包括：二喷孔设于该抛光设备的清洗装置的两侧；及一洗剂入口设于该抛光设备的清洗装置；其中所述的二喷孔形成的二信道与所述的洗剂入口所形成的一信道相连接。
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