[发明专利]真空化学热处理过程试样的放、取设备无效

专利信息
申请号: 200310109881.2 申请日: 2003-12-30
公开(公告)号: CN1556242A 公开(公告)日: 2004-12-22
发明(设计)人: 张伟民;陈乃录;刘占仓;潘健生 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C23C8/00 分类号: C23C8/00;F27B5/06;B01J3/02
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟;王桂忠
地址: 200240*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种真空化学热处理过程试样的放、取设备,属于金属材料热处理领域。本发明包括:管状真空容器、放、取试样的传输机构、放气阀、真空泵联接管路、真空泵、阀门、真空炉炉体、真空炉内保温层、试样放置装置、密封门和真空碟阀。管状真空容器与真空炉体联通并深入到真空炉内保温层的位置,在管状真空容器上设置密封门、真空碟阀和放、取试样的传输机构,试样放置装置设在放、取试样的传输机构的下方,真空泵联接管路与管状真空容器联通,在真空泵联接管路上设置放气阀、真空泵和阀门,阀门设置在真空泵与管状真空容器的真空泵联接管路上。本发明可保证真空化学热处理炉的真空度,同时也不会影响正常的真空化学热处理工艺过程的进行。
搜索关键词: 真空 化学 热处理 过程 试样 设备
【主权项】:
1、一种真空化学热处理过程试样的放、取设备,其特征在于,包括:管状真空容器(1)、放、取试样的传输机构(2)、放气阀(3)、真空泵联接管路(4)、真空泵(5)、阀门(6)、真空炉炉体(7)、真空炉内保温层(8)、试样放置装置(9)、密封门(10)、真空碟阀(11),其连接方式为:管状真空容器(1)与真空炉体(7)联通并深入到真空炉内保温层(8)的位置,在管状真空容器(1)上设置密封门(10)、真空碟阀(11)和放、取试样的传输机构(2),试样放置装置(9)设在放、取试样的传输机构(2)的下方,真空泵联接管路(4)与管状真空容器(1)联通,在真空泵联接管路(4)上设置放气阀(3)、真空泵(5)和阀门(6),阀门(6)设置在真空泵(5)与管状真空容器(1)的真空泵联接管路(4)上。
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