[发明专利]一种用于大规模生产光合细菌的培养基无效

专利信息
申请号: 200310110473.9 申请日: 2003-10-30
公开(公告)号: CN1539958A 公开(公告)日: 2004-10-27
发明(设计)人: 刘勇;张战泓;罗源华;张德咏 申请(专利权)人: 湖南省植物保护研究所
主分类号: C12N1/20 分类号: C12N1/20;//;C12R1:01)
代理公司: 湖南兆弘专利事务所 代理人: 彭选明
地址: 410125湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明涉及一种用于大规模生产光合细菌的培养基,它的组成成分及百分含量为:醋酸盐1-35%,硫酸盐2-40%,磷酸盐3-40%,EDTA0.001-1%,KOH0.01-1.2%,FeSO4.7H2O0.01-1.5%,MnSO40.01-2%,H3BO30.01-10%,CuSO40.0001-1.0%,Na2MoO40.001-1.5%,ZnSO40.0001-2.0%.该培养基培养的光合细菌可使每毫升培养液中的活细菌数达到5.0亿个以上,保存时间可达2年以上。
搜索关键词: 一种 用于 大规模 生产 光合 细菌 培养基
【主权项】:
1、一种用于大规模生产光合细菌的培养基,其特征在于各组成成分及其百分含量为:醋酸盐1-35%,硫酸盐2-40%,磷酸盐3-40%,EDTA0.001-1%,KOH 0.01-1.2%,FeSO47H2O 0.01-1.5%,MnSO4 0.01-2%,H3BO3 0.01-10%,CuSO4 0.0001-1.0%,NaMOO4 0.001-1.5%,ZnSO4 0.0001-2.0%。
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