[发明专利]半导体器件无效
申请号: | 200310113718.3 | 申请日: | 2003-11-17 |
公开(公告)号: | CN1501500A | 公开(公告)日: | 2004-06-02 |
发明(设计)人: | 清利正弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L27/10;H01L27/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供既是适合于在半导体衬底上的多层布线上形成的高电容·高密度MIM电容器,又是呈现出适合于向AD转换器等的模拟电路的应用的对施加电压的良好的线性度的电容器。MIM电容器由2个实质上说上部电极面积124、125相等的一对元件(第1元件和第2元件)构成,具有一方的电容器的下部电极127或126,和另一方的电容器上部电极124或125彼此用布线129(连接124和127)或129’(连接125和126)电连起来的结构。将实现对电压的线性度极其优良的电容器。即便是使用易于产生在电极界面处的反应的高介电常数材料或难于在大面积衬底上形成均一的界面那样的成膜方法,也可以确保对所加电压的良好的线性度。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,具备:已形成了半导体元件的半导体衬底;在上述半导体衬底上每一者都通过层间绝缘膜多层叠层的多层金属布线层;在上述多层金属布线层上通过层间绝缘膜地形成的由上部金属电极、电介质膜和下部金属电极构成的电容器;在被形成为把上述电容器被覆起来的绝缘膜上设置上层的布线层,其特征在于:上述电容器由第1和第2元件构成,这些第1和第2元件,分别由叠层起来的下部金属电极、电介质膜和上部金属电极构成,各自上部金属电极实质上是同一大小形状,而且,各自上部金属电极在已分别形成配置有上述下部金属电极和上述电介质膜的区域内形成,上述第1元件的下部金属电极和上述第2元件上部金属电极电连起来,上述第1元件上部金属电极和上述第2元件的下部金属电极电连起来。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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