[发明专利]产生正弦光强度分布的结构光的系统

摘要

本发明是有关于一种产生正弦光强度分布的结构光的系统，其是包括具同调性的光源及绕射光学元件，同调光源用以提供一入射光源至绕射光学元件，入射光源经由绕射光学元件调制后产生一正弦光强度分布的干涉图形，其中绕射光学元件是依据入射光源在输入平面的光场分布以及输出平面的光场分布并利用数学模型加以优化设计。

主权项

1.一种产生正弦光强度分布的结构光的系统，其特征在于，包括：一同调光源，是用以提供一具同调性的入射光源；以及至少一绕射光学元件，是调制该同调光源使其光强度变化转换呈一正弦波强度变化，其中一优化数学模型至少包含一具有相位调制功能的相位式绕射光学元件的一浮雕表面、一光束输入平面以及一光束输出平面，一第一波动函数是在该光束输入平面，一第二波动函数是在该光束输出平面，该第一波动函数与该第二波动函数之间是存在一转换函数，且该第一波动函数和该转换函数相乘积结果与该第二波动函数之间存在一误差函数的关系，该误差函数经由该优化数学模型以产生该浮雕表面，以供该同调光源透过该浮雕表面调制于光束输出平面产生该正弦光强度分布的一干涉图形。