[发明专利]叠层型光电元件无效
申请号: | 200310114917.6 | 申请日: | 2003-11-13 |
公开(公告)号: | CN1501513A | 公开(公告)日: | 2004-06-02 |
发明(设计)人: | 杉山秀一郎;盐崎笃志;高井康好;都筑英寿 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L31/075 | 分类号: | H01L31/075;H01L31/078 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种叠层型光电元件,由在基体上层叠多个具有pin结的光电元件而成,上述pin结是由用以IV族元素为主成分的非单晶构成的p型半导体层、i型半导体、n型半导体层形成的,其特征在于:从光入射侧算起,第一i型半导体层由氢化非晶态硅构成,第二以后的i型半导体层由氢化非晶态硅或微晶硅构成;设用第二以后的pin元件中的i型半导体层是微晶硅的pin元件制作pin光电单元件时的开路端电压为Voc,该i型半导体层的膜厚为t,则通过包含Voc/t的值最大的i型半导体层的pin元件对叠层型光电元件的短路光电流密度进行控制。 | ||
搜索关键词: | 叠层型 光电 元件 | ||
【主权项】:
1.一种叠层型光电元件,由在基体上层叠多个具有pin结的光电元件而成,上述pin结是由分别用以IV族元素为主成分的非单晶构成的p型半导体层、i型半导体、n型半导体层形成的,其特征在于:从光入射侧算起,第一i型半导体层由氢化非晶态硅构成,第二以后的i型半导体层由氢化非晶态硅或微晶硅构成;设用第二以后的pin元件中的i型半导体层是微晶硅的pin元件制作pin光电单元件时的开路端电压为Voc,该i型半导体层的膜厚为t,则通过包含Voc/t的值最大的i型半导体层的pin元件对叠层型光电元件的短路光电流密度进行控制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200310114917.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于同时形成硅上金属电容器的最佳透过注入
- 下一篇:光电元件
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的