[发明专利]光致抗蚀剂显影剂组合物有效
| 申请号： | 200310115315.2 | 申请日： | 2003-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1503064A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 朴赞硕;金吉来;朴春镐;金敬娥 | 申请（专利权）人： | 东进半导体化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G02F1/136;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;刘玉华 |
| 地址： | 韩国仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种在薄膜晶体管型液晶显示装置(TFT－LCD)或半导体制备中用于形成光致抗蚀剂图案的光致抗蚀剂显影剂组合物。该光致抗蚀剂显影剂组合物在总显影剂组合物中包括按重量计为1.0～10.0％的无机碱性化合物、按重量计为0.1～3.0％的有机溶剂、按重量计为1.0～20.0％的表面活性剂、按重量计为67～97.9％的水。优选的表面活性剂是阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合物，并且阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的比例按重量计为1∶10～1∶100。该显影剂组合物可用水稀释使得在最终显影剂组合物中该显影剂组合物按重量计为0.5～5.0％。该光致抗蚀剂显影剂组合物可防止曝光抗蚀剂区表面的侵蚀，并对非曝光抗蚀剂区具有较好的显影能力，及可最小化显影步骤后残渣的出现。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 显影剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂显影剂组合物，在总显影剂组合物中包括：按重量计为1.0～10.0％的无机碱性化合物；按重量计为0.1～3.0％的有机溶剂；按重量计为1.0～20.0％的表面活性剂；及按重量计为67～97.9％的水。
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