[发明专利]一种后补铝合成高硅MWW分子筛的方法

摘要

本发明涉及一种后补铝合成高硅MWW结构分子筛的方法，首先通过对合成得到的MWW结构的硼硅分子筛在强酸条件下脱硼得到全硅MWW结构分子筛，然后对MWW结构的全硅分子筛进行后处理开层并且在开层的同时进行补铝得到任意高硅铝比的MWW结构分子筛。本合成方法突破了原有的直接合成的方法合成所能得到MCM－22分子筛的硅铝比范围较窄(Si/Al为10－15)的限制，可以得到超出原有合成方法限制的任意高硅铝比的高硅MWW分子筛。与其它合成高硅MWW分子筛的体系相比，本合成方法体系简单，合成的高硅MWW分子筛的硅铝比可以调节。

主权项

1、一种后补铝合成高硅MWW分子筛的方法，其主要步骤为：a)将模板剂、硼酸制成溶液，加入硅的化合物搅拌得到均匀的混合物；b)将步骤a得到的产物转移至反应釜中于100-200℃晶化2-10天，冷却后过滤，洗涤得完全结晶产物；c)将步骤b所得产物于350-600℃下焙烧2-20个小时，得硼硅MWW分子筛；d)将步骤c所得产物于60-120℃下通过2-8M HNO3回流10-23个小时脱去硼，得到全硅MWW分子筛；e)将机有胺加入铝的化合物溶液中，搅拌均匀，再加入步骤d所得的分子筛，继续搅拌；f)将步骤e所得产物移至反应釜中于150-200℃水热处理，反应3-8天，冷却后过滤，洗涤得结晶产物；g)将步骤f所得产物于350-600℃下焙烧2-20小时得高硅铝比MWW分子筛；上述各步骤中加入原料的摩尔比例为：Si-MWW∶xAl2O3∶yHMI∶zH2O，其中x＝0.0001-0.05，y＝0.8-2.0，z＝10-50。