[发明专利]等离子体处理容器内部件无效
| 申请号： | 200310115779.3 | 申请日： | 2003-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1516535A | 公开（公告）日： | 2004-07-28 |
| 发明（设计）人： | 三桥康至;中山博之;长山将之;守屋刚;长池宏史 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/00 | 分类号： | H05H1/00;B01J19/02;C23C4/10;C23F4/00;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可抑制形成为掺杂涂层的喷镀膜剥离的等离子体处理容器内部件。它是在基材(71)与喷镀膜(72)之间，由对含卤素处理气体的耐腐蚀性好的材料形成屏蔽生涂层(73)，通过树脂或溶胶凝胶法对该屏蔽性涂层(73)进行封孔处理。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 容器 部件 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理容器内部件，具有基材和在其表面通过喷镀陶瓷而形成的膜，其特征在于，构成所述膜的陶瓷含有选自B、Mg、Al、Si、Ca、Cr、Y、Zr、Ta、Ce和Nd中的至少1种元素，其中，至少一部分由树脂进行封孔处理。
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