[发明专利]闪耀全息光栅的制备方法无效
| 申请号： | 200310116282.3 | 申请日： | 2003-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1544995A | 公开（公告）日： | 2004-11-10 |
| 发明（设计）人： | 李森森;刘守;张向苏;刘影 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | G03H1/04 | 分类号： | G03H1/04;G02B5/18 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 涉及一种采用全息摄影手段制备闪耀全息光栅的新方法。其步骤为：用两对称入射的相干平行光对记录材料进行第一次曝光，随即进行第一次显影，用单束平行光以一定的角度入射进行第二次曝光，单束平行光与第一次曝光所用的两相干平行光处在记录材料的同一入射面，随即进行第二次显影。比正弦填充法更易实现，只比一般全息光栅的制备过程多曝光和显影，可以利用原有制备一般全息光栅的设备进行闪耀全息光栅的制备。与已有的方法相比，所增加的曝光和显影工序较简单，不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要增加额外的制备设备和特殊元件，因而简化了闪耀全息光栅的制备过程，提高了制备速度，且降低了制备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 闪耀 全息 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、闪耀全息光栅的制备方法，其特征在于其步骤为：1)、用两对称入射的相干平行光对记录材料进行第一次曝光，入射角θ由下式确定：2sinθ＝λ/d，其中，λ为记录光源的激光波长，d为光栅周期，所说的记录材料为可形成浮雕状干涉条纹的记录干版，记录光源为记录干版敏感的激光波长；2)、随即进行第一次显影；3)、用单束平行光以一定的角度入射进行第二次曝光，所说的单束平行光与第一次曝光所用的两相干平行光处在记录材料的同一入射面；4)、随即进行第二次显影，即得具有锯齿槽形的闪耀全息光栅。
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