[发明专利]动态随机存取存储单元及其制造方法有效
申请号: | 200310116427.X | 申请日: | 2003-11-21 |
公开(公告)号: | CN1619795A | 公开(公告)日: | 2005-05-25 |
发明(设计)人: | 林永昌;梁佳文;王泉富 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/8242 | 分类号: | H01L21/8242;H01L27/108 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种动态随机存取存储单元及其制造方法。动态随机存取存储单元的沟槽式电容器的制造方法是在一基底上形成一沟槽。而后,在沟槽表面上形成第一电容介电层,接下去再在沟槽内形成一导电层。然后,在基底表面上形成一第二导电层,其中第一与第二电容介电层周围的基底作为下电极。随后,在基底上形成一凸出电极,该电极覆盖沟槽与基底的交界处,并延伸覆盖于导电层上。接下去,将凸出电极与导电层电连接,作为电容器的上电极。由于本发明结构与制作工艺都很简单,所以不但可防止漏电问题还能节省制造成本。 | ||
搜索关键词: | 动态 随机存取 存储 单元 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种沟槽式电容器的制造方法,包括:于一基底中形成一沟槽;于该沟槽表面形成一第一电容介电层;于该沟槽内形成一导电层;于该基底表面及该导电层上形成一第二电容介电层,其中该第一电容介电层与该第二电容介电层周围的该基底作为一下电极;于该基底上形成一凸出电极,该凸出电极位于该沟槽周缘的该基底上并覆盖该沟槽与该基底的交界处;以及将该凸出电极与该导电层电连接,其中该导电层以及该凸出电极作为一上电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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