[发明专利]化学机械研磨装置及其研磨垫轮廓的控制系统与调节方法

摘要

一种研磨垫轮廓的控制系统，适于包括研磨垫、研磨台、研磨头以及调节器的一化学机械研磨装置，其中研磨垫包含一透光区。而这种控制系统包括至少一光源、一检测器以及一处理器。而光源设置于研磨台中，且对应于研磨垫的透光区。检测器则位于研磨垫上方，以检测通过研磨垫的透光区的光源所发出的光。处理器根据检测器所检测的结果，来估算研磨垫的厚度，以判定研磨垫的轮廓状况，进而发出一处理讯号至调节器，借以调整调节器的处理程序。由于本发明能在线控制研磨垫轮廓，所以可降低关于晶圆内不均匀度的变量而获致平坦的研磨垫轮廓。

主权项

1.一种研磨垫轮廓的控制系统，用于一化学机械研磨装置，该化学机械研磨装置包括一研磨垫、一研磨台、一研磨头以及一调节器，其中该研磨垫包含一透光区，该研磨垫轮廓的控制系统包括：至少一光源，设置于该研磨台中，其中该光源对应于该研磨垫的该透光区；一检测器，位于该研磨垫上方，以检测通过该研磨垫的该透光区的该光源所发出的光；以及一处理器，根据该检测器所检测的结果，来估算该研磨垫的厚度，以判定该研磨垫的轮廓状况，进而发出一处理讯号至该调节器，借以调整该调节器的处理程序，使得该研磨垫的轮廓状况在经过该调节器处理后为一优选的状况。