[发明专利]一种设计交替相移掩模的方法

摘要

本发明提供一种设计交替相移掩模的方法及装置，该掩模包括衬底。该方法包括以下步骤：提供电路布局；确定电路布局的多个临界单元；提供截止布局尺寸；确定电路布局的临界部分，其中该些多个临界单元的每一个具有小于截止尺寸的亚截止尺寸；创建与临界部分相关的基本位相形状；从位相形状中去除布局违例；确定与临界部分相关的位相形状的宽度是否具有不相等的较窄的和较宽的宽度，如果是，那么加宽每个较窄的位相形状，以与临界部分相关的较宽的位相形状的宽度配合，从去除布局违例开始重复步骤，直到测试答案为否；如果测试答案为否，那么提供布局图形给输出。

主权项

1.一种设计交替相移掩模的方法，该掩模包括衬底，该方法包括：a)提供电路布局；b)确定所述电路布局的多个临界单元；c)提供截止布局尺寸；d)确定电路布局的临界部分，其中该些多个临界单元的每一个具有小于所述截止尺寸的亚截止尺寸；e)创建与临界部分相关的基本位相形状；f)从位相形状中去除布局违例；g)进行测试以确定与临界部分相关的位相形状的宽度是否具有不相等的较窄的和较宽的宽度，如果测试结果为是，那么加宽每个较窄的位相形状，以与临界部分相关的较宽的位相形状的宽度配合，重复步骤f)至步骤g)，直到测试答案为否；以及h)如果测试答案为否，那么提供布局图形给输出。