[发明专利]光致抗蚀剂移除组合物有效
| 申请号： | 200310116832.1 | 申请日： | 2003-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1536447A | 公开（公告）日： | 2004-10-13 |
| 发明（设计）人： | 朴成焕;李昌奂;曹三永;金玮鎔;尹锡壹 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司;东进瑟弥侃株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 贾静环;宋莉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用以移除因蚀刻或灰化子处理所产生的光致抗蚀剂残余物的光致抗蚀剂聚合物移除剂组合物。所公开的该光致抗蚀剂聚合物移除剂组合物包括：(a)基于该组合物总重量5％至15％的硫酸、(b)基于该组合物总重量1％至5％的过氧化氢或0.0001％至0.05％的臭氧、(c)基于该组合物总重量0.1％至5％的醋酸、(d)基于该组合物总重量0.0001％至0.5％的氟化铵及(e)余量为水。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂移 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂聚合物移除剂组合物，包括：(a)基于该组合物总重量5％至15％的硫酸；(b)基于该组合物总重量1％至5％的过氧化氢或0.0001％至0.05％的臭氧；(c)基于该组合物总重量0.1％至5％的醋酸；(d)基于该组合物总重量0.0001％至0.5％的氟化铵；及(e)剩余水量。
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