[发明专利]真空镀膜设备无效
| 申请号： | 200310117499.6 | 申请日： | 2003-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1594650A | 公开（公告）日： | 2005-03-16 |
| 发明（设计）人： | 储继国 | 申请（专利权）人： | 储继国 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市中一专利事务所 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518026广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空镀膜设备，其包括镀膜室、前级真空泵、高真空阀、低真空阀、高真空计、低真空计和镀膜膜料源，该镀膜设备还包括牵引分子泵，该牵引分子泵的进气口与镀膜室连接，排气口前级泵连接。并且在牵引分子泵轴承与抽气通道之间加设气流挡尘器。本发明的真空镀膜设备结构简单、抽气时间短、能耗低、生产效率高，并可提高真空镀膜产品的质量，特别适用于对油蒸汽污染敏感的各种真空镀膜应用领域。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜设备，其包括镀膜室、前级真空泵，其特征在于：该镀膜设备还包括牵引分子泵，该牵引分子泵的进气口经高真空阀或直接与镀膜室连接，其排气口经低真空阀与另一前级真空泵连接。
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