[发明专利]在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备有效
| 申请号： | 200310118337.4 | 申请日： | 2003-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1503058A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·鲁 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种使用第三气体将第一气体隔离于第二气体的系统和方法。第一室包含基于第一气体发光的元件。第二室使用发出的光进行处理并包含第二气体。气闸将第一室连接到第二室。气体源在气闸中提供第一和第二气体之间的第三气体，使得在气闸中第一气体隔离于第二气体。可从第一室中抽取第一和第三气体并将它们彼此分开，使得可以循环第一气体，用于再使用来形成发光。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 用于 气体 隔离 光源 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：包含基于第一气体发光的元件的第一室；使用所述发出的光来进行处理并包含第二气体的第二室；将所述第一室连接到所述第二室的气闸；和在所述气闸中提供所述第一和所述第二气体之间的第三气体的气体源，使得在所述气闸中所述第一气体隔离于所述第二气体。
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