[发明专利]聚酰亚胺光学波导管的制造方法无效
申请号: | 200310118839.7 | 申请日: | 2003-11-28 |
公开(公告)号: | CN1504780A | 公开(公告)日: | 2004-06-16 |
发明(设计)人: | 宗和范;内藤龙介;望月周 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B6/10 | 分类号: | G02B6/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉;贾静环 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 聚酰亚胺光学波导管的制造方法,包括(a)在基材上形成包层下层,(b)在该包层下层上形成光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层,(c)用紫外线经掩模照射除了相应于芯图案区域之外的光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层,随后在曝光后加热,(d)通过显影去掉未紫外线曝光的区域,(e)加热该层中的紫外线曝光区域,使酰亚胺化紫外线曝光区域,形成具有所需图案的包层,(f)用聚酰胺酸涂敷与芯图案对应的区域和包层的一个表面,该聚酰胺酸形成比包层的聚酰亚胺树脂有更高折射率的聚酰亚胺树脂,通过加热使该聚酰胺酸酰亚胺化以形成芯层,和(g)在该芯层上形成包层上层。 | ||
搜索关键词: | 聚酰亚胺 光学 波导管 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.聚酰亚胺光学波导管的制造方法,其包括如下步骤:(a)在基材上形成一个包层下层,(b)在该包层下层上形成光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层,(c)用紫外线经掩模照射除了相应于芯图案区域之外的光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层,随后在曝光后加热,(d)通过显影去掉光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层中未紫外线曝光的区域,(e)加热光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层中的紫外线曝光区域,以便酰亚胺化该紫外线曝光区域,从而形成具有所需图案的包层,(f)用聚酰胺酸涂敷与芯图案对应的区域和包层的一个表面,该聚酰胺酸形成一种比包层的聚酰亚胺树脂具有更高折射率的聚酰亚胺树脂,并通过加热使该聚酰胺酸酰亚胺化以便形成一个芯层,和(g)在该芯层上形成包层上层,其中,该光敏聚酰亚胺树脂前体组合物含有:(i)得自四羧酸二酐和二胺的聚酰胺酸,和(ii)含下式(I)代表的1,4-二氢吡啶衍生物的光敏剂:
其中Ar代表在相对1,4-二氢吡啶环的键合位置的邻位上具有硝基的芳香基;R1代表氢原子或者具有1-3个碳原子的烷基;并且R2、R3、R4和R5各自独立地代表氢原子或1或2个碳原子的烷基。
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