[发明专利]光刻设备和器件制造方法

摘要

在光刻设备中，控制在衬底上投影光束的强度分布的角度相关性。在光瞳平面附近的光束中固定设置光束分裂器。所述光束分裂器分出辅助光束，用所述辅助光束测量在光瞳平面上的光束的空间强度分布的信息。最好是，使用照明器固有的边界条件对辅助光束中的测量的位置相关性去卷积，以补偿光瞳平面和探测元件之间的偏差。使用测量的位置相关性控制操纵光瞳平面中位置相关性的光学元件的参数。这样的光学元件的例子是，可控地导引各部分光束方向的元件矩阵。因此，可以实现连续的反馈回路。

主权项

1.一种光刻设备，包括：-辐射系统，它提供辐射的投影光束，所述辐射系统包括照明系统，所述照明系统限定在光瞳平面中光束的位置相关的强度分布；-支撑结构，它支撑构图装置，所述照明系统依据在所述光瞳平面中的所述位置相关的强度分布，限定在所述构图装置上的所述光束的角度相关的强度分布；-衬底台，它保持衬底；和-投影系统，它向所述衬底的目标部分投影构图的光束。其特征在于：所述设备包括：-光束分裂器，它固定在所述投影光束的光程中，所述光束分裂器分出辅助光束，和-探测器，它带有在所述辅助光束的光程中的探测元件，用于探测与所述光瞳平面相应的位置相关的强度分布信息。