[发明专利]光刻装置，器件制造方法，及由此制成的器件有效
| 申请号： | 200310119736.2 | 申请日： | 2003-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN1504831A | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | M·A·范德科霍夫;W·P·德博伊;M·M·赫梅里克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置包括：辐射系统，用来提供一次辐射的投影束；用于支撑作图装置的支撑结构，该作图装置用来按照所需图形对投影束作图；用于夹持衬底的衬底台；投影系统，用来将作图的束投射至衬底的目标部分上；辐射感测器，它可以在投影束经过的路径上移动，用来接收来自投影束的一次辐射，该感测器包括：一种辐射敏感材料，它将入射的一次辐射转变为二次辐射；能感测从该材料发出的二次辐射的感测装置；及一种滤波材料，它防止二次辐射在背离辐射感测装置的方向传播。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 由此 制成 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括-辐射系统，用来提供一次辐射的投影束；-支撑结构，用来支撑作图装置，该作图装置用来按所需图形对投影束作图；-衬底台，用来夹持衬底；-投影系统，用来将作图的束投射到衬底的目标部分上，-辐射感测器，它可在投影束经过的路径上移动，以接收来自投影束的一次辐射，该辐射感测器包括：一种辐射敏感材料，它将入射的一次辐射转变为二次辐射；能感测从辐射敏感材料发出的二次辐射的辐射感测装置；一种滤波材料，它能基本上阻止二次辐射在背离辐射感测装置方向传播。
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