[发明专利]具有双金属层光栅的偏光组件及其制造方法有效
| 申请号： | 200310120495.3 | 申请日： | 2003-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1629659A | 公开（公告）日： | 2005-06-22 |
| 发明（设计）人： | 丘至和;郭惠隆;刘怡君;陈品诚 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 经志强;潘培坤 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有双金属层光栅的偏光组件，适用于可见光谱。多条平行的介电层，具有一周期(p)，形成于一透明基底上，其中相邻的介电层之间具有一沟槽。一第一金属层，具有一第一厚度(d1)而形成于该沟槽中。一第二金属层，具有一第二厚度(d2)与一宽度(w)而形成于介电层上，其中第一金属层与第二金属层之间具有一垂直距离(l)而互不相连。周期(p)的范围为10～250nm。第一、二厚度(d1、d2)的范围为30～150nm，且第一厚度(d1)等于第二厚度(d2)。垂直距离(l)的范围为10～100nm。宽度(w)/周期(p)的比例范围为25～75％。本发明还公开了一种具有双金属层光栅的偏光组件的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 双金属 光栅 偏光 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有双金属层光栅的偏光组件，包括：一透明基底；多条平行的介电层，具有一周期(p)而形成于所述透明基底上，其中相邻的所述多条介电层之间具有一沟槽；一第一金属层，具有一第一厚度(d1)而形成于所述沟槽中；以及一第二金属层，具有一第二厚度(d2)与一宽度(w)而形成于所述多条介电层上，其中所述第一金属层与所述第二金属层之间具有一垂直距离(1)而互不相连；其中，所述周期(p)小于等于250nm；其中，所述第一厚度(d1)与所述第二厚度(d2)都小于等于150nm，且所述第一厚度(d1)等于所述第二厚度(d2)；其中，所述垂直距离(1)小于等于100nm；其中，所述宽度(w)/所述周期(p)的比例为25～75％。
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